Samsung ve ASML İş Birliğini Genişletti: High NA EUV DRAM'e 2028'e Kadar Girecek mi?

Samsung Electronics ve ASML, 8 Eylül 2026 tarihli ortak duyuruda stratejik iş birliklerini genişlettiklerini açıkladı; Samsung, ASML'in High NA EUV litografisini gelecekteki DRAM yüksek hacimli üretimine sektörde ilk kez, 2028'e kadar sokmayı planlıyor. Bülten bir plan anlatıyor; teslim edilmiş makine sayısı, tutar veya kesin bir üretim tarihi açıklamıyor.

Künye

• Taraflar: Samsung Electronics ve ASML
• Tarih: 8 Eylül 2026
• Yayım yeri: Samsung Newsroom (küresel sayfa)
• Konu: Yeni nesil yarı iletken üretimi için stratejik iş birliğinin genişletilmesi
• İş birliği alanları: 12 inç fotomaske teknolojisi, High NA EUV litografinin DRAM üretimine girişi, ileri bellek ve yenilikçi üretim yaklaşımlarının araştırılması
• Samsung tarafı: Young Hyun Jun, Vice Chairman ve CEO
• ASML tarafı: Christophe Fouquet, President ve CEO
• Parasal tutar: Açıklanmadı

Bülten Ne Söylüyor?

Samsung Newsroom'da yayımlanan bülten üç iş birliği alanı sayıyor. Birincisi, High NA EUV üretimi için 12 inç fotomaske teknolojisinin geliştirilmesi. İkincisi, High NA EUV litografinin DRAM üretimine girişi. Üçüncüsü ise ileri bellek ve yenilikçi üretim yaklaşımlarının birlikte araştırılması.

DRAM ile ilgili cümle şöyle aktarılıyor: Samsung, ASML'in High NA EUV litografisini gelecekteki DRAM yüksek hacimli üretimine, sektörde bir ilk olarak, 2028'e kadar sokmayı planlıyor. Cümle bir niyeti anlatıyor; 2028'de üretimin başlamış olacağı anlamına gelen bir taahhüt değil.

High NA EUV Nedir?

EUV (extreme ultraviolet, aşırı mor ötesi) litografi, çip üzerindeki çok küçük devre desenlerini silikon yongaya basmak için çok kısa dalga boylu ışık kullanan üretim tekniğidir. "High NA" ifadesi, litografi makinesinin optik sisteminin sayısal açıklığının (numerical aperture) yüksek olduğunu belirtir. Bu sayfa teknik performans karşılaştırması yapmaz; bülten de makinelerin teknik değerlerini vermiyor. Sitemizdeki Samsung Display M16 OLED sayfası ayrı bir konudur; bu bültenle ilişkisi bültende kurulmamıştır.

Fotomaske Geçişi Ne Demek?

Fotomaske, litografide devre desenini taşıyan kalıptır. Bülten, 6 inçten 12 inç fotomaske teknolojisine geçmeye yönelik bir sektör girişiminden söz ediyor ve Samsung ile ASML'in bu çabada birlikte çalışacağını yazıyor. Geçişin hangi tarihte tamamlanacağı bültende belirtilmiyor.

Yöneticiler Ne Dedi?

Samsung Electronics Vice Chairman ve CEO'su Young Hyun Jun bültende yapay zekâ çağının yarı iletken sektörünü dönüştürdüğünü ve değer zinciri boyunca teknolojik yeniliğin önemini artırdığını söylüyor. ASML Başkanı ve CEO'su Christophe Fouquet ise Samsung'un uzun yıllardır ASML'in en önemli yenilik ortaklarından biri olduğunu belirtiyor. İki söz de genel nitelikte; somut rakam veya takvim içermiyor.

Bu Sayfada Ne Yok?

• Anlaşmanın parasal değeri yok; bülten herhangi bir tutar açıklamıyor.
• Sipariş edilen veya teslim edilen makine sayısı yok.
• High NA EUV'nin DRAM üretiminde 2028'de fiilen kullanılmaya başlandığına dair bir teyit yok; bülten yalnızca plandan söz ediyor.
• 12 inç fotomaskeye geçişin hangi tarihte tamamlanacağı yok.
• ASML'in Samsung için münhasır tedarikçi olduğuna dair bir ifade yok.
• Makinelerin teknik özellikleri, verim değerleri veya üretim yeri yok.
• Samsung'un rakiplerine göre konumu hakkında bülten bir karşılaştırma yapmıyor; bu sayfa da yapmaz.
• Türkiye'ye veya Türkiye pazarına dair bir açıklama yok.

Sık Sorulan Sorular

Samsung ve ASML ne duyurdu?

Stratejik iş birliklerini genişlettiklerini; alanlar olarak 12 inç fotomaske, High NA EUV'nin DRAM üretimine girişi ve ileri bellek araştırmalarını açıkladılar.

Samsung High NA EUV ile 2028'de DRAM üretecek mi?

Bülten Samsung'un bunu 2028'e kadar yapmayı planladığını söylüyor. Bir plan; üretimin başladığı anlamına gelmez.

Anlaşmanın tutarı nedir?

Açıklanmadı. Bültende parasal bir rakam yok.

High NA EUV ne demek?

Yüksek sayısal açıklığa sahip aşırı mor ötesi litografi makinelerini anlatan terim; çip desenlerini basan üretim tekniğidir.

12 inç fotomaske neden anılıyor?

Bülten, 6 inçten 12 inç fotomaskeye geçişe yönelik bir sektör girişimini iş birliği alanlarından biri olarak sayıyor.

Bu bilgi nereden doğrulanabilir?

Samsung Newsroom'daki 8 Eylül 2026 tarihli "Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing" bülteni kaynaktır.

Kaynak: Samsung Newsroom, "Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing", 8 Eylül 2026 (news.samsung.com/global). Tutar, makine adedi, teknik değerler ve fotomaske geçiş tarihi bültende yer almadığı için yazılmamıştır.